紫外纳秒激光制备高效的多晶硅减反绒

摘要

针对多晶硅表面的光反射造成的能量损失的问题,开展基于圆锥顶形阵列织构的多晶硅表面减反绒研究。首先通过差分有限元分析法,仿真绒面高度对反射率的影响,得出当绒面高度在30μm时,其表面反射率最低。其次用紫外纳秒激光在硅片表面制备不同高度的绒面,进行制造工艺优化,测试不同绒面的反射率并模拟出开路电压及短路电流。研究发现绒面织构高度在30.24μm时,减反效果最好,平均反射率为4.03%,其光电转换效率达18.81%。