Stanford University.;
机译:使用胍基配体进行化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)应用的最新进展
机译:用于有机和有机无机杂交材料的分子层沉积概述:机制,生长特性和有前途的应用
机译:SiO {sub} 2中间层对使用深亚微米器件应用原子层沉积(ALD)沉积的Al {sub} 2O {sub} 3 / SiO {sub} 2 / n {sup} +-poly Si界面的影响
机译:用于零厚度铜阻挡层的钽基材料的原子层沉积(ALD)
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:用于医学和环境健康应用的基于原子层沉积的材料功能化
机译:二维层状材料的原子层沉积:工艺,生长机制和特性
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。