首页> 外文学位 >Impurity Reduction Strategies for III-N Materials Grown by Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy
【24h】

Impurity Reduction Strategies for III-N Materials Grown by Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy

机译:等离子体辅助分子束外延生长的III-N材料的杂质降低策略

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

著录项

  • 作者

    Jorgensen, Kelsey F.;

  • 作者单位

    University of California Santa Barbara.;

  • 授予单位 University of California Santa Barbara.;
  • 学科
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 2020
  • 页码 102 p.
  • 总页数 102
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 AAI28095642;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号