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Selective nitridation of silicon substrates using microwave nitrogen plasma

机译：使用微波氮等离子体对硅衬底进行选择性氮化

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作者
Sharma, Shashank;
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作者单位

University of Louisville;

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授予单位 University of Louisville;
学科
学位 M.S.
年度 2000
页码 88 p.
总页数 88
原文格式 PDF
正文语种 eng
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