Princeton University;
机译:密集低压感应耦合射频放电碳氟化合物等离子体中的硅和二氧化硅蚀刻
机译:SF_6 / CH_2F2 / Ar电感耦合等离子体中构图的硅栅结构的腐蚀机理
机译:具有脉冲偏置的感应耦合碳氟化合物等离子体中Si,SiCH,SiO_2,SiOCH和多孔SiOCH蚀刻速率计算的模型:碳氟化合物层的重要性
机译:使用双旋转螺旋天线系统的电感耦合高密度等离子体获得的二氧化硅薄膜的形成和表征
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:电感耦合等离子体炬合成硅纳米线的生长机理及其相关的光致发光性能
机译:使用傅里叶变换红外椭圆仪研究在射频偏置感应耦合碳氟化合物等离子体中蚀刻的硅基板的表面化学性质
机译:用于模拟硅氧烷和相关材料的碳氟化合物等离子体蚀刻的化学反应机制