University of Colorado at Boulder.;
机译:臭氧和氧等离子体辅助氧化铝原子层沉积过程中的表面反应机理
机译:使用三(二乙氨基)铝和水蒸气在Si(100)上通过原子层沉积法沉积的氧化铝的后沉积退火
机译:三甲基铝和水氧化铝原子层沉积中每周期生长与表面羟基浓度的相关性
机译:两级原子层沉积:在亲水和疏水表面上沉积氧化铝膜
机译:在InAs(100)和GaAs(100)表面上高k金属氧化物原子层沉积过程中的表面化学和界面演化。
机译:二氧化ha原子层沉积在砷化铟上的自清洁和表面化学反应
机译:在砷化铟上的二氧化铪原子层沉积中自清洁和表面化学反应