University of California, Berkeley.;
机译:络合剂和抑制剂对铜化学机械平面化的组合作用
机译:通过在钨 - 薄膜化学机械平坦化中使用苹果酸选择性剂,通过使用苹果酸选择性剂在钨膜和二氧化硅膜之间的高度选择性抛光速率
机译:通过富勒烯水溶性包合物的4H-SiC基材进行高级化学机械平面化
机译:铜的化学机械平面化:抑制剂和络合剂的作用
机译:浆料化学物质对铜化学机械平面化的影响。
机译:高效碘(III)试剂在促进钯(II)络合物催化的未活化的C(SP3)-H键的烷氧基化方面的作用
机译:具有不同络合剂的平面化浆料的铜的电位 - pH图
机译:氧化剂与pX形式自由基的双分子反应:复杂核运动的作用