The University of Nebraska - Lincoln.;
机译:使用空心阴极脉冲溅射技术在硅上生长和表征碳化硅薄膜
机译:中空阴极反应溅射系统沉积高质量非晶硅,锗和硅锗薄膜
机译:中空阴极磁控溅射在不同氮浓度下离轴生长AlN薄膜
机译:中空阴极溅射直流等离子体磁控管溅射对平板玻璃生长薄膜阳极效应的影响及不同条件下锌膜溅射铜膜的光学性能研究
机译:通过化学气相沉积技术制备β-碳化硅薄膜的表观生长。
机译:射频磁控溅射碳化硅和钨hen基薄膜热电偶保护涂层的热电特性
机译:利用空心阴极脉冲溅射将3C-siC薄膜沉积到si的(111)和(110)面上
机译:先进碳化硅薄膜生长技术的研究与开发及高功率微波频率碳化硅器件结构的制作