University of Illinois at Urbana-Champaign.;
机译:在不同真空环境下,高通量极紫外光照射下,极紫外光刻光学多层反射镜反射率的非线性行为
机译:激光生产的基于等离子体的极紫外光源技术,用于大批量制造极紫外光刻
机译:极紫外光源中间焦点处的碎屑传输分析
机译:极端紫外线光源中间焦点的污染问题
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:检测从极紫外光刻光源发出的高能中性通量
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。