Hong Kong University of Science and Technology (People's Republic of China).;
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机译:勘误至:通过结合酸蒸汽蚀刻和锂孔填充来增强硅纳米线的光电性能(材料科学:材料在电子学杂志,(2017),28,18,(13426-13435),10.1007 / s10854-017 -7181-2)
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