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第一章绪论
1.1研究意义与课题背景
1.1.1光子集成的优越性
1.1.2实现光子集成的困难
1.1.3光子集成技术的目标
1.1.4 ROADM的PIC设计实例
1.2研究内容与结构安排
参考文献
第二章InP基单片光子集成技术
2.1五种常用的光子集成技术
2.1.1 Butt-joint光子集成技术
2.1.2 SAG光子集成技术
2.1.3 QWI光子集成技术
2.1.4 OQW光子集成技术
2.1.5 ATG光子集成技术
2.2光子集成技术的混合运用
2.2.1 SAG与Butt-joint混合运用
2.2.2 ATG与QWI混合运用
2.2.3 SAG,QWI与ATG混合运用
2.3本章小结
参考文献
第三章楔形结构在ATG集成技术中的应用与性能分析
3.1一种新的ATG光子集成技术的提出
3.1.1垂直耦合双波导结构集成技术简介
3.1.2新的ATG光子集成技术的构想
3.1.3工艺基础——楔形结构的制备
3.2楔形在ATG结构PIN探测器集成器件中的应用
3.2.1楔形在ATG结构PIN探测器集成器件中的性能分析
3.2.2楔形耦合器的特性分析
3.2.3带楔形耦合器的ATG结构PIN探测器集成器件的制造工序探讨
3.3单模光纤波导的设计
3.3.1光纤与波导耦合的理论分析
3.3.2光纤波导设计及其对准容差分析
3.4本章小结
参考文献
第四章MMI-MZI型InP/InGaAsP光开关的设计
4.1光开关简介
4.1.1 2×2光开关功能设计及相关说明
4.1.2 MMI-MZI型光开关的工作原理
4.2 MMI-MZI型InP/InGaAsP光开关的设计
4.2.1光开关外延层的设计
4.2.2光开关传输波导的设计
4.2.3光开关的MMI设计
4.2.4光开关状态的设计
4.3光开关的制造容差
4.3.1 MMI长度变化对光开关的影响
4.3.2光开关宽度变化对光开关的影响
4.3.3两侧波导宽度不对称对光开关的影响
4.1本章小结
参考文献
第五章光开关的制备与测试
5.1光开关波导材料的生长
5.1.1外延片的设计与制备
5.2光开关的加工
5.2.1掩膜版的绘制与制备
5.2.2光波导的干法刻蚀
5.2.3光开关电极的制作
5.2.4后续工艺——侧面处理
5.2.5后续工艺——端面处理
5.3光开关的测试
5.3.1光开关测试指标
5.3.2光开关测试装置
5.4本章小结
参考文献
附录
致谢