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第一章绪论
§1.1薄膜光损耗的研究背景
§1.2常用的光学薄膜制备技术
1.2.1热蒸发和电子束蒸发
1.2.2离子辅助沉积
1.2.3溅射镀膜
§1.3薄膜的光损耗概述及起源
§1.4本论文的研究内容
参考文献
第二章单层膜以及多层膜光损耗的计算
§2.1引言
§2.2粗糙界面引起的光散射的计算
2.2.1光学表面散射理论对粗糙界面的计算
2.2.2粗糙界面的单层膜计算模型
§2.3单层膜的光损耗计算
§2.4多层膜的光损耗计算
2.4.1非相关表面粗糙度模型
2.4.2附加表面粗糙度模型
§2.5本章小结
参考文献
第三章不同溅射气压下制备的Nb2O5薄膜光损耗分析
§3.1引言
§3.2理论分析
§3.3样品制备与测试
§3.4结果与讨论
3.4.1沉积速率的变化
3.4.2薄膜的结构和形貌
3.4.3 Nb2O5单层膜的光损耗分析
3.4.4 Nb2O5/SiO2多层膜的光损耗分析
§3.4本章小节
参考文献
第四章在反应磁控溅射过渡区制备高反射膜的工艺控制
§4.1引言
§4.2样品制备与测试
§4.3结果与讨论
4.3.1氧流速对Ta2O5薄膜沉积速率和光学性质的影响
4.3.2基片温度对Ta2O5薄膜光学性质的影响
4.3.3 Ta2O5薄膜的结构和形貌表征
4.3.4在过渡区沉积高反膜的分析及工艺控制
§4.4本章小节
参考文献
攻读学位期间完成或准备中的论文
致谢