摘要
1绪论
1.1研究背景及意义
1.2电磁屏蔽薄膜的研究现状
1.2.1金属网栅的应用
1.2.2国内外发展现状
1.3红外增透膜的应用与现状
1.3.1红外增透膜的应用
1.3.2国内外发展现状
1.4本文的主要研究
1.4.1总体研究思路
1.4.2研究内容
1.5章节安排及内容
2.1概述
2.2薄膜光学常数表征
2.3网栅薄膜的电磁屏蔽效能表征
2.4薄膜光谱特性表征
2.5薄膜厚度表征
2.6小结
3电磁屏蔽薄膜的设计与制备
3.1电磁屏蔽薄膜的设计理论
3.2电磁屏蔽特性仿真
3.2.1金属网栅的光学特性
3.2.2金属网栅的电磁屏蔽特性
3.3金属网栅薄膜的制备
3.3.1网栅薄膜的光刻工艺
3.3.2金属网栅薄膜的制备工艺
3.4金属网栅的光谱及屏蔽效能测试
3.4.1金属网栅薄膜的光谱特性
3.4.2金属网栅的电磁屏蔽效能
3.5小结
4红外增透膜的设计与制备
4.1红外减反射膜的设计理论
4.2红外增透膜的膜系设计
4.2.1膜料与基底的选择
4.2.2单层膜制备
4.2.3红外增透膜的膜系设计
4.3红外增透膜的制备
4.3.1薄膜制备
4.3.2红外增透膜的优化
4.4红外增透膜的光谱特性
4.4.1 ZnSe舰3组合膜系光谱特性
4.4.2 ZnSe/BaF2组合膜系光学特性
4.4.3 ZnSe/BaF2组合膜系性能优化
4.5小结
5兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件的研制
5.1薄膜器件的膜层结构
5.2.1红外窗口薄膜器件的光谱特性
5.2.2薄膜器件的电磁屏蔽效能
5.3其它性能
5.4小结
6结论
6.1结论
6.2展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表的论文及成果
致谢
声明
西安工业大学;