熔石英平面元件离子束抛光工艺研究

目录

摘要

1．1课题研究背景及意义

1．1．1课题研究背景

1．1．2课题研究意义

1．2国内外研究现状

1．2．1熔石英元件超光滑表面加工研究现状

1．2．2离子束抛光国内外研究现状

1．3论文研究的主要内容

2离子束抛光理论与仿真

2．1熔石英光学表面离子束抛光的基本理论

2．1．1离子束溅射机理

2．1．2离子束去除函数

2．1．3离子束抛光去除理论

2．2软件仿真分析

2．2．1软件模拟

2．2．2仿真结果讨论

2．3离子束抛光设备

2．4本章小结

3离子束抛光表面形貌演变

3．1熔石英表面粗糙度及微观形貌的演变

3．1．1熔石英平面元件表面微观形貌

3．1．2离子束抛光熔石英元件表面原子微观行为分析

3．2熔石英光学平面元件表面粗糙度的检测及评价

3．2．1检测设备

3．2．2评价指标

3．3本章小结

4离子束抛光中射频离子源工作参数优化研究

4．1基础实验条件分析确定

4．2射频离子源工作参数实验研究

4．2．1三因素五水平正交实验

4．2．2实验结果分析

4．3中和占空比对表面粗糙度的影响

4．4本章小结

5离子束抛光熔石英表面表面粗糙度的影响研究

5．1入射角度对熔石英表面粗糙度的影响

5．1．1实验设计

5．1．2实验结果分析

5．2初始表面状态刻蚀结果分析

5．3本章小结

6结论与展望

6．1全文总结

6．2展望

参考文献

攻读硕士学位期间发表的论文及成果

致谢

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