硼镓共掺直拉单晶硅中铁杂质的行为研究

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第一章 绪论

1.1 研究背景与意义

1.2 研究目的与内容

1.3 本论文结构安排

第二章 文献综述

2.1 引言

2.2 硅中的硼和镓

2.2.1 硅中的硼的基本性质

2.2.2 硅中的镓的基本性质

2.3 硅中的金属铁

2.3.1 铁对器件性能的影响

2.3.2 铁的引入

2.3.3 铁的扩散系数和固溶度

2.3.4 铁在硅中的存在状态

2.3.5 降低铁杂质对器件性能的影响

2.4 铁沉淀

2.4.1 铁沉淀的结构

2.4.2 铁沉淀的沉淀规律

2.4.3 铁沉淀的电学性质

2.5 铁受主对

2.5.1 铁受主对的结构

2.5.2 铁受主对的形成与分解

2.5.3 铁受主对的电学性质

2.6 存在的问题

第三章 实验样品和研究方法

3.1 硼镓共掺直拉单晶硅的制备过程

3.1.1 大尺寸硅棒的生长

3.1.2 小尺寸硅片的制备

3.2 铁沾污共掺样品的制备过程

3.2.1 生成铁受主对的方法步骤

3.2.2 生成铁沉淀的方法步骤

3.3 氢钝化的方法步骤

3.4 测试表征手段和设备

3.4.1 深能级瞬态谱

3.4.2 电容-电压测试

3.4.3 微波光电导少子寿命测试仪

第四章 硼镓共掺 CZ硅中铁受主对的分布及氢钝化

4.1 引言

4.2 实验

4.3 实验结果与讨论

4.3.1 硼镓共掺 CZ硅中铁受主的分布

4.3.2 硼镓共掺 CZ硅中铁受主对的氢钝化

4.3.3 硼镓共掺 CZ硅中铁受主氢钝化的热稳定性

4.4 本章小结

第五章 硼镓共掺 CZ硅中铁沉淀的电学性能研究

5.1 引言

5.2 实验

5.3 实验结果与讨论

5.3.1 硼镓共掺 CZ硅中铁沉淀的电学性质

5.3.2 单纯掺硼 CZ硅中铁沉淀的电学性质

5.3.3 单纯掺镓 CZ硅中铁沉淀的电学性质

5.4 本章小结

第六章 结论与展望

参考文献

致 谢

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攻读学位期间发表的学术论文