VCSEL亚波长光栅P面反射镜的优化设计

目录

声明

第1章 绪 论

1.1 垂直腔面发射激光器（VCSEL）简介

1.2 P面反射镜简介

1.2.1 DBR的结构与原理

1.2.2不同波段下DBR研究现状

1.2.3 半导体DBR反射镜的特点

1.3 亚波长光栅反射镜

1.3.1 亚波长光栅

1.3.2 亚波长光栅反射镜的研究现状

1.4 课题研究的目的意义

1.5 论文的主要内容

第2章 VCSEL P面反射镜优化设计理论

2.1 分布布拉格反射镜的设计

2.1.1 VCSEL的品质因数

2.1.2 传输矩阵理论

2.1.3 DBR的反射率及带宽

2.2 亚波长光栅反射镜的相关理论

2.2.1 麦克斯韦方程组

2.2.2 等效介质理论

2.2.3 严格耦合波理论

2.3 本章小节

第3章 亚波长光栅反射镜的结构设计和特性仿真

3.1 亚波长光栅反射镜的结构设计

3.2 垂直于基底入射时各参数仿真分析

3.2.1 光栅周期与波长、反射率之间的关系

3.2.2 占空比与波长、反射率之间的关系

3.2.3 光栅厚度与波长、反射率之间的关系

3.2.4 应力缓冲层与波长、反射率之间的关系

3.2.5 低折射率亚层与波长、反射率之间的关系

3.3 垂直于光栅表面入射时对反射率的影响

3.4 光栅形状对反射率的影响

3.5 本章小结

第4章 亚波长光栅反射镜关键工艺研究

4.1 亚波长光栅反射镜工艺流程

4.2 外延生长工艺研究

4.3 电子束曝光工艺研究

4.3.1 电子束曝光结构原理

4.3.2电子束曝光工艺流程

4.3.3 电子束曝光技术实验研究

4.4 ICP刻蚀工艺研究

4.4.1 ICP刻蚀原理

4.4.2 刻蚀速率计算及形貌分析

4.4.2不同占空比对刻蚀深度的影响

4.5 台面刻蚀及氧化工艺

4.5.1 光刻台面

4.5.2台面刻蚀

4.5.3 氧化工艺

4.6本章小结

第5章 结论

参考文献

攻读硕士学位期间取得的成果

致谢