封面
声明
中文摘要
英文摘要
目录
第一章 绪 论
1.1 多铁材料
1.2 多铁氧化物材料BiFeO3(BFO)
1.3 第三代半导体材料GaN概述
1.4多铁/半导体集成薄膜研究概况
1.5 论文选题及研究方案
第二章 BFO薄膜的制备工艺及结构与性能分析方法
2.1 BFO薄膜脉冲激光沉积(PLD)制备方法简介
2.2 BFO薄膜后位微结构表征方法
2.3 BFO薄膜的电学性能测试
第三章 蓝宝石Al2O3衬底上BFO薄膜的生长研究及性能测试
3.1 STO/TiO2双缓冲层对Al2O3基片上生长BFO薄膜的影响
3.2 BFO薄膜最佳工艺参数的探索
3.3 小结
第四章 BFO/GaN异质结构研究
4.1 BFO/GaN薄膜的集成
4.2 GaN基片上BFO薄膜的性能测试
4.3 BFO/STO/TiO2/AlGaN/GaN异质结构性能初探
4.4 小结
第五章结论
致谢
参考文献
攻读硕士期间取得的成果