声明
1 绪论
1.1 引言
1.2 偏振光场感测存在的问题
1.3 国内外相关技术发展现状
1.3.1 偏振成像技术发展现状
1.3.2 光场成像技术发展现状
1.3.3 液晶器件技术发展现状
1.4 本文的研究内容及章节安排
2 偏振光场成像原理与建模
2.1引言
2.2偏振成像原理
2.2.1 光波偏振态描述
2.2.2 扭曲向列液晶的光学建模
2.3亚波长金属偏振光栅特性
2.3.1 各向异性亚波长结构分析方法
2.3.2 面阵亚波长光栅制作及表征
2.3.3 远场光学 特性
2.3.4 近场光学特性
2.4压缩光场成像模型与方法
2.4.1 成像架构
2.4.2 数学模型
2.4.3 数字重聚焦
2.4.4 深度估计
2.4.5 深度分辨率
2.5偏振光场成像面阵液晶微镜关键技术
2.5.1 液晶基面阵微镜制备关键步骤
2.5.2 液晶面阵微镜光学特性测试方法
2.6 本章小结
3 基于层叠液晶面阵微镜的偏振光场探测
3.1引言
3.2层叠液晶面阵微镜
3.2.1 P-LCMLA器件结构
3.2.2 P-LCMLA工作原理
3.3层叠液晶面阵微镜偏振特性
3.4偏振与偏振不敏感光场成像
3.5本章小结
4 基于扭曲向列液晶面阵微镜的三维偏振特性感测及去雾
4.1 引言
4.2 扭曲向列液晶面阵微镜
4.2.1 TN-LCMLA器件结构
4.2.2 TN-LCMLA工作原理
4.2.3 TN-LCMLA光学特性
4.3 偏振差分去雾方法与图像质量评价
4.3.1 偏振差分去雾
4.3.2 图像质量评价
4.4 偏振光场和平面一体化成像与去雾
4.4.1 偏振光场成像系统构建
4.4.2 LCMLA与TN-LCMLA成像对比
4.4.3 偏振差分去雾成像
4.5 本章小结
5 基于石墨烯-液晶面阵微镜的光场探测与景深扩展
5.1引言
5.2单晶石墨烯制备与表征
5.2.1 石墨烯
5.2.2 单晶石墨烯制备方法
5.2.3 单晶石墨烯性能表征
5.3石墨烯微纳定向能力
5.4基于石墨烯-液晶双模一体化成像
5.4.1 基于石墨烯定向液晶微镜阵列
5.4.2 光学特性表征
5.4.3 电调景深方法
5.5 光场图像采集、渲染与景深特征
5.5.1 光场与平面双模一体化成像
5.5.2 不同工作模式下景深特征
5.6本章小结
6 基于石墨烯-液晶面阵微镜的红外波谱展宽
6.1 引言
6.2 红外液晶面阵微镜的衍射串扰与波谱拓展问题
6.3 基于多晶石墨烯定向的液晶面阵微镜
6.4 面向波前测调与光场成像的IR-LCMLA光学特性
6.4.1 IR-LCMLA不同定向方式对比
6.4.2 IR-LCMLA电控调焦特性
6.4.3 IR-LCMLA透过光谱
6.4.4 IR-LCMLA聚焦性能
6.5 本章小结
7 全文总结及展望
7.1 本文研究成果
7.2本文创新点
7.3 下一步工作展望
致谢
参考文献
附录1 攻读博士学位期间发表的学术论文
附录2 攻读博士学位期间申请的发明专利
附录3 公开发表的学术论文与博士学位论文的关系
附录4 博士生期间参与的课题研究情况
附录5 英文缩写词
