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紫外透明导电氧化镓薄膜的制备及性能表征

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文摘

英文文摘

第一章文献综述

第二章量子力学密度泛函理论计算简介

第三章直流反应磁控溅射的成膜原理

第四章薄膜制备过程与测试方法介绍

第五章掺Sn的Ga2O3薄膜的理论计算

第六章Ga2O3薄膜的制备与表征

第七章掺Sn的Ga2O3薄膜的制备与表征

第八章结论

参考文献

攻读硕士期间发表的论文

致谢

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摘要

本文对紫外透明导电氧化镓薄膜的制备及性能表征进行了研究。文章阐述了目前被广泛研究并业已成熟的透明导电氧化物薄膜材料,并对氧化镓薄膜的性质、制备方法及其在现代技术中的应用进行了综述和展望。利用自行设计的特殊靶托,首次采用直流反应磁控溅射和液态金属镓靶制备了氧化镓薄膜,并研究了溅射过程中不同工艺参数以及不同氧化方案对氧化镓薄膜结晶质量、光学性质的影响。利用X射线衍射仪,紫外—可见分光光度计,场发射扫描电镜,傅立叶红外光谱仪等对氧化镓薄膜的结构性能,光学性能及表面形貌进行了测试和分析。

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