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致谢
第一章绪论
1.1引言
1.2 Run-to-Run控制产生背景
1.3文献回顾
1.4 Run-to-Run控制器的结构
1.5 Run-to-Run控制研究现状
1.6 Run-to-Run控制的应用现状
1.7本文结构
参考文献
第二章EWMA类控制器回顾
2.1指数加权移动平均控制算法
2.1.1单变量指数加权移动平均控制算法
2.1.2指数加权移动平均控制算法稳定性分析
2.2双指数加权移动平均控制算法
2.2.1单变量双指数加权移动平均控制算法
2.2.2多变量双指数加权移动平均控制算法
2.2.3多变量双指数加权移动平均控制算法稳定性分析
参考文献
第三章变模型增益EWMA控制算法
3.1引言
3.2非线性过程对象
3.3变模型增益指数加权移动平均算法
3.4基于岭回归的变模型增益指数加权移动平均算法
3.5指数加权矩阵的选取
参考文献
第四章仿真实验
4.1引言
4.2化学机械抛光过程简介
4.2.1化学机械抛光的架构
4.2.2化学机械抛光过程的变量
4.2.3化学机械抛光过程模型
4.3单输入单输出对象仿真
4.3.1线性单输入单输出对象仿真
4.3.2非线性单输入单输出对象仿真
4.4非线性多输入多输出对象仿真
4.5小结
参考文献
第五章Run-to-Run控制软件设计
5.1引言
5.2软件设计任务
5.3软件设计结构
5.3.1软件总体运行框图
5.3.2加载模块
5.3.3控制算法
5.3.4数据库接口
5.3.5显示模块
5.4运行环境
参考文献
第六章总结与展望
6.1工作总结
6.2研究展望
作者简介
浙江大学;
浙江大学信息科学与工程学院;