刻蚀衍射光栅波分复用器仿真与优化设计

摘要

在光通讯网络里，随着波分复用技术的使用，可获得的信息容量迅速增加。波分复用器.解复用器是波分复用网络里最关键、最核心的器件。而这其中基于平面波导集成技术设计制作的刻蚀衍射光栅器件，由于具有结构紧凑、光谱性能优异等显著优势，成为其中具有广泛应用潜力的一种。然而由于器件采用了凹面结构，且光栅周期可变，从而使得对这样的器件精确计算和设计非常困难，特别在此前研究中一直不能对该类器件偏振特性进行有效分析。 本论文首先对使用不同光栅结构的刻蚀衍射光栅器件基于电磁理论做了精确的仿真模拟。采用对镀金属光栅和全内反射光栅都适用的边界元方法，精确分析了器件结构参数对损耗、偏振相关损耗、串扰、回波损耗、色散等关键性能的影响，探讨了器件损耗和偏振相关损耗的起源；而对镀金属光栅，又提出了更高效的矩量法做仿真分析，并对特定的性能要求给出了器件结构参数确定的方法；对全内反射光栅则在考虑了Goos-Hanchen位移和齿面有限尺寸影响后对标量算法进行修正，提出了快速又精确的分析方法，该方法使用简单的解析推导，既能取得与边界元算法接近的计算精度，又可以对计算结果给予满意的物理解释。 出于改进器件性能的要求，论文提出了许多新颖的器件改进设计方法，这主要包括： (1)平顶低色散刻蚀衍射光栅设计：在输入波导末端加上一段带有预整形输入的多模干涉区，用优化设计的预整形结构来让频谱具有陡峭的边缘，通过基因算法来优化抛物线形多模干涉区结构，获得了频谱高平坦(有效带宽比接近85％)、低带通纹波(接近0dB)、低色散(低于3ps/nm)的刻蚀衍射光栅设计。 (2)低偏振相关损耗设计：靠让光栅阴影面具有适当的粗糙度，可以在很大波长范围内设计具有低于0.2dB的偏振相关损耗的刻蚀衍射光栅。靠让光栅具有合适的圆角半径或阴影面倾斜度，可以设计在中心波长附近一定带宽内具有低偏振相关损耗的刻蚀衍射光栅。 (3)低串扰设计：在每个输出波导前端引入两个结构优化的空气槽，以此来对两相邻波长在该通道处的旁瓣场分布作强烈共振散射，却对工作波长场分布有小的影响。这样可以大大抑制相邻通道旁瓣影响，设计串扰50dB以下的刻蚀衍射光栅器件。 (4)低回波损耗设计：在将刻蚀衍射光栅输入波导放置在中心波长衍射包络能量极小值位置后，进一步通过交替变换齿面衍射级分布，可以抑制相邻衍射级能量分布，减小其对输入波导可能带来的回波损耗，至40dB左右。 (5)大光栅齿面大自由光谱范围设计：对刻蚀衍射光栅器件，选用大的衍射级，可以获得相对较大的光栅齿面，减小制作难度，同时可让器件的损耗和偏振敏感性都降低；然而大的衍射级必然降低器件的自由光谱范围，使波分复用可以利用的通道数减少。 论文通过对刻蚀衍射光栅所有齿面衍射级全局优化，将使用衍射包络对相邻两衍射包络消光比提高到30dB以上，使得相邻衍射包络的能量可以被当作可接受的串扰看待，进而解决了上述矛盾。详尽分析了光栅圆角化、表面粗糙以及波导和器件自由扩散区点缺陷存在等工艺误差对器件性能带来的影响，为器件制作提供了参考。对设计好的集成波导器件，本论文分别采用硅基二氧化硅波导结构，实现了器件制作的全部工艺研究，并实现了器件样品的制作。通过性能的测试，为器件制作工艺的改进提供了参考。

目录

文摘

英文文摘

第一章绪论

1.1波分复用技术

1.1.1概述

1.1.2光纤

1.1.3有源器件

1.1.4无源器件

1.2波分复用器

1.2.1薄膜波分复用器

1.2.2基于光纤光栅的波分复用器

1.2.3体光栅波分复用器

1.2.4平面集成波分复用器

1.3刻蚀衍射光栅波分复用器

1.3.1器件结构

1.3.2光栅结构

1.3.3关键结构参数

1.3.4仿真设计方法

1.3.5制作

1.4论文研究的内容和目标

1.4.1论文的研究内容

1.4.2论文的创新点

1.4.3论文的结构

参考文献

第二章刻蚀衍射光栅数值分析方法与性能分析

2.1数值方法

2.1.1标量衍射方法

2.1.2矩量法

2.1.3边界元方法

2.1.4对全内反射型光栅的快速仿真方法

2.2性能分析

2.2.1插入损耗

2.2.2偏振相关损耗

2.2.3通道均匀性

2.2.4色散

2.2.5串扰

2.2.6回波损耗

2.2.7由性能分析合理选择器件结构参数

参考文献

第三章刻蚀衍射光栅的优化设计

3.1平顶型频谱响应

3.1.1背景介绍

3.1.2使用多模干涉功分器实现频谱平坦化

3.1.3预展宽结构对模场分布的改进

3.1.4高平坦、边缘陡峭、低色散的刻蚀衍射光栅设计

3.2低偏振相关损耗设计

3.2.1背景介绍

3.2.2利用光栅圆角来实现低偏振相关损耗

3.2.3利用光栅表面粗糙度来实现低偏振相关损耗

3.2.4利用光栅阴影面倾斜来实现低偏振相关损耗

3.3低带间串扰设计

3.3.1背景介绍

3.3.2通过输出端优化刻蚀来实现低串扰

3.4低回波损耗设计

3.4.1背景介绍

3.4.2输入波导位置的选择

3.4.3啁啾衍射级设计来实现低回损

3.5大自由光谱范围设计

3.5.1背景介绍

3.5.2优化啁啾衍射级设计

参考文献

第四章工艺误差对器件性能的影响

4.1光栅圆角效应

4.2光栅表面粗糙

4.3点缺陷

4.3.1波导内的点缺陷

4.3.2自由扩散区的点缺陷

参考文献

第五章制作及实验

5.1硅基二氧化硅刻蚀衍射光栅制作工艺

5.1.1硅基二氧化硅刻蚀衍射光栅的制作流程

5.1.2掩膜制作

5.1.3波导沉积

5.1.4光刻与金属掩膜溅射

5.1.5 ICP刻蚀

5.1.6性能测试

5.2刻蚀衍射光栅的其它应用

参考文献

第六章结论与展望

6.1论文总结

6.2刻蚀衍射光栅的后续研究

参考文献

致谢

研究生期间发表的论文