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声明
第一章绪论
1.1自组装单分子膜的结构及其自组装机理
1.1.1自组装单分子膜的结构
1.1.2自组装单分子膜的种类及其成膜机理
1.2自组装单分子膜表面上金属再沉积特性研究进展
1.3自组装单分子膜在化学气相沉积铜薄膜中的应用
1.3.1传统的扩散阻挡层
1.3.2自组装单分子膜作为扩散阻挡层
1.4本论文工作
参考文献
第二章在末端功能基团为甲基的自组装单分子膜上化学气相沉积铜薄膜研究
2.1前言
2.2实验操作
2.2.1实验药品及材料
2.2.2实验仪器
2.2.3分析仪器
2.2.4实验步骤
2.3实验结果及分析
2.3.1 PTMS成膜分析
2.3.2铜在PTMS-SAMs改性的基材表面上的化学气相沉积
2.4小结
参考文献
第三章在末端官能团为吡啶的自组装单分子膜上化学气相沉积铜薄膜研究
3.1前言
3.2实验操作
3.2.1实验药品及材料
3.2.2实验仪器
3.2.3分析仪器
3.2.4实验步骤
3.3实验结果及分析
3.3.1 TMSEP成膜分析
3.3.2铜在TMSEP-SAMs改性的基材表面上的化学气相沉积
3.4小结
参考文献
第四章自组装单分子膜影响铜薄膜沉积的因素分析
4.1前言
4.2 SAMs中不同类型末端功能基团对CVD Cu的影响
4.2.1不同SAMs的成膜厚度
4.2.2不同SAMs对Cu成核及生长的影响
4.2.3 SAMs末端功能基团对CVD Cu薄膜的影响
4.3末端功能基团的空间构型对CVD Cu薄膜的影响
4.3.1末端功能基团为2位吡啶和3位吡啶的SAMs阻挡层效能比较
4.3.2末端功能基团的空间构型对CVD Cu薄膜的影响
4.4小结
参考文献
总结和展望
硕士期间发表论文
致谢