文摘
英文文摘
论文说明:图表目录
声明
致谢
1绪论
1.1引言
1.2光开关概述
1.3化合物半导体光开关的研究进展
1.4研究意义和所做工作
参考文献
2 GaAs材料与制作工艺
2.1 GaAs材料特性
2.1.1外延生长技术
2.1.2载流子注入效应
2.1.3 AlGaAs/GaAs/AlGaAs双异质结
2.2 GaAs制作工艺
2.2.1刻蚀技术
2.2.2掺杂技术
2.2.3介质膜的生长与刻蚀
2.2.4电极制作以及欧姆接触
参考文献
3 GaAs载流子注入型光开关的设计
3.1外延材料与波导结构设计
3.2工艺流程设计
3.3光开关结构设计
3.3.1多模干涉自映像效应
3.3.2多模干涉-马赫曾德尔型光开关
3.3.3多模干涉型光开关
3.3.4基于外延材料一的器件设计
3.3.5基于外延材料二的器件设计
3.3.6锥形光波导中附加相位特性的分析
参考文献
4器件制作与测试
4.1基本工艺的摸索
4.1.1光刻
4.1.2波导的腐蚀
4.1.3电极制作
4.1.4氧离子注入
4.2基于外延材料一的器件制作及测试
4.2.1材料通光测试
4.2.2器件制作
4.2.3器件测试
4.3基于外延材料二的器件制作及测试
4.3.1材料通光测试
4.3.2器件制作
4.3.3器件测试
4.3.4载流子注入型器件的工艺难点
参考文献
5可变光衰减器的设计
5.1 S弯曲可变光衰减器
5.1.1工作原理
5.1.2集成S弯曲衰减器的1×2热光光开关
5.1.3 GaAs载流子注入型S弯曲衰减器
5.2多模干涉型可变光衰减器
5.3基于W型五层平板波导的可变光衰减器
参考文献
6总结与展望
6.1总结
6.2存在的不足及展望
作者简历及攻读博士学位期间的研究成果