单色EL屏产业化中的工艺技术研究

摘要

该篇论文主要针对交流薄膜型单色EL屏产业化中存在的部分重要工艺技点.首先介绍并讨论了ELD我层结构的物理性能和发光机理,各层薄膜材料的特点和光学性能,给出了一个简单实用的物理模型.然后简介了美国光阵公司的单色EL屏生产线,指出现今EL产业化中存在的主要工艺技术难点.针对EL显示对比度有待提高的缺陷,分析了主要改进方法,研制出黑色吸光层,当中,介绍了光学薄膜反射理论,详细阐述了吸光层的设计和制作工艺,新工艺运用的结果是TFEL的平均反射率从75﹪降到4﹪.配合黑色吸光层在矩阵式ELD上的运用,又研制出新型双层沲脱工艺,从理论分析和实验样品剖面照片看,这种新工艺完全ELD产业化的要求.

目录

文摘

英文文摘

第一章引言

1-1 ELD(Electroluminescence Display电致发光屏)的历史与现状

1-2 ELD产业化中的技术难点

第二章TFEL器件原理

2-1电致发光器件分类

2-2交流薄膜型EL结构及特点

2-3交流薄膜型EL的存储特性

2-4 TFEL屏寻址方式简介

2-5 EL的发光机理

2-5-1碰撞激发截面

2-5-2电子的能量分布

2-5-3高场猝灭效应

2-5-4电子的离化倍增

2-5-5无辐射能量传递

2-6 EL器件物理分析

2-6-1透明导电前电极(ITO)

2-6-2发光层

2-6-3后电极与自愈特性

2-6-4光学性能分析

2-7器件等效模型

第三章单色EL屏生产流水线

第四章产业化中的工艺技术难点研究

4-1研制提高对比度的黑色吸光层

4-1-1 EL屏在对比度方面的缺陷

4-1-2主要改进方法评述

4-1-3黑色吸光层研制

4-2浮脱工艺研究

4-2-1浮脱法工艺介绍

4-2-2倒梯形浮脱截面图的分析

4-2-3双层法浮脱工艺步骤

4-3 EL生产线自动控制的研究

4-3-1 PLC的基本概念及其控制原理

4-3-2 PLC对发光层生产线的控制方式

4-4 PCB工艺及设备用于ELD前电极批量生产的研究

4-4-1 PCB设备及使用背景

4-4-2精细刻蚀研究

第五章结束语

5-1论文总结

5-2 ELD技术发展趋势

参考文献

附图

致谢