PLZT铁电电光薄膜制备工艺研究

摘要

作为电光薄膜材料，锆钛酸铅镧(简称PLZT)凭借其优异的铁电、电光性能，被广泛地应用于光电子学、集成光学等领域。近年来，电光材料的制备、结构、性能和应用已经成为国际上新型材料研究的一个热点。 本文围绕制备性能优异的电光材料，从电光材料的选择、材料配比、靶材制备、射频磁控溅射镀膜设备的研制、电光薄膜材料制作等方面进行了研究。取得了以下主要实验结果： (1)研究发现，成分为PLZT8/65/35的结构和电光性能最好。其最佳工艺条件为：910℃预烧，1100℃烧结并保温6小时；而制备透明导电薄膜SnO2陶瓷靶材的最佳工艺条件为：预烧、烧结温度分别为1100℃和1500℃同时保温6小时。并以此为基础分别制备了致密、均匀、平整、直径为φ212mm的PLZT和φ221mm的SnO2陶瓷溅射靶材； (2)为克服现有磁控溅射设备的不足，提出了一种新的磁控溅射方案，采用方案的设备具有：靶材利用率高、镀膜均匀、成膜速度快等特点； (3)运用AFM、XRD、SEM以及双光路分光光度计等分析手段对PLZT和SnO2薄膜的微结构和性能进行研究，找到了制备PLZT电光薄膜和SnO2透明电极材料的最佳工艺条件。

目录

文摘

英文文摘

独创性声明及关于论文使用授权的说明

第一章绪论

第二章实验方案及测试原理

第三章旋转磁场平面靶磁控溅射设备研制

第四章溅射靶材研究

第五章电光薄膜及透明电极制备工艺研究

第六章结论

致谢

参考文献

攻读硕士学位期间的研究成果