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紫外磁光存储CoCu纳米颗粒膜的制备与研究

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第一章 绪论

第二章CoCu颗粒膜的制备与性能测试方法

第三章 CoCu薄膜微观结构的XRD分析

第四章 CoCu薄膜的表面形貌分析

第五章 CoCu薄膜的磁光克尔效应分析

第六章 CoCu薄膜的极向克尔回线分析

第七章 结论

参考文献

致谢

发表及拟发表稿件

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摘要

本文溅射得到了五种成分和四种退火温度下的CoCu纳米颗粒膜,首先对薄膜的微观结构进行了分析,发现CoCu薄膜易形成置换固溶体,且 Co,Cu原子在其中均匀分布;制备态CoCu薄膜倾向于形成fcc亚稳结构,增加薄膜Co含量或提高退火温度均有利于薄膜发生fcc—hcp结构转变。退火增大了CoCu薄膜表面粗糙度,但300oC退火后粗糙度减小,这对于确定薄膜的退火工艺具有一定的参考价值;退火后薄膜粗糙度随Co含量增加而增大,最大值对应Co含量为63atm.%;CoCu薄膜表面粗糙度远小于紫外光波长,可以满足磁光存储的要求。CoCu薄膜克尔转角随Co含量增加而增大。含Co47atm.%以上的CoCu薄膜短波波段克尔转角峰值均大于0.15o,达到了商用要求;退火处理也可增强薄膜的磁光效应,Co含量较高的薄膜较高温度下退火后析出了第二相粒子,形成类似多层膜结构,层间耦合强化了克尔效应,使这些薄膜的克尔转角甚至大于纯Co薄膜;退火后CoCu薄膜的短波和长波克尔峰位随Co含量的升高有向长波偏移的趋势。另外,升高退火温度和提高CoCu薄膜中的Co含量均有利于提高薄膜的饱和磁场强度。

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