光罩管理系统的优化来降低Haze的影响

摘要

光罩在晶圆厂的日常使用中会因为环境、光罩存储方式等因素的影响产生雾状缺陷(Haze),目前在全世界范围内还是个无法避免和解决的课题。在晶圆厂内,Haze的产生是正常现象并不可怕,真正对生产上有影响的是Haze的光罩没有被及时发现,仍在使用造成产品因为光罩Haze的影响而造成良率的损失以及光罩因Haze去送修造成产品生产周期的延迟。所以目前国内外对于Haze的研究也大部分都集中在如何及时发现Haze,降低影响。本文研究目标是通过对现有光罩管理系统的分析来发现其中会对光罩产生Haze的隐患,并对此进行优化来降低光罩产生Haze的几率。作者通过实验建立起严格的光罩检测机制和优化光罩盒的管理系统来及时发现光罩Haze,降低Haze对产品良率的影响。

目录

上海交通大学学位论文答辩决议书

摘要

ABSTRACT

第一章 绪论

1.1 集成电路发展的历史及趋势

1.1.1 什么是集成电路

1.1.2 集成电路的分类

1.1.3 集成电路发展的历史

1.2 课题研究背景和意义

1.3 国内外最新研究状况

1.3.1 一种Haze 形成的新模型和光罩存储时间的评估

1.3.2 先进的光掩模制造工艺

1.4 论文结构框架

第二章 Haze 现象的描述

2.1 光罩的基本特性

2.1.1 光罩的定义

2.1.2 光罩的构成

2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制

2.2.1 Haze 的现象和在wafer 上的表现

2.2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制

2.2.3 Haze 发生与曝光波长的关系

2.3 光罩制作流程中对于Haze 产生的贡献

2.3.1 光罩的生产流程介绍

2.3.2 光罩生产流程中用到的化学品

2.4 光罩使用过程中对Haze 的贡献

2.4.1 光罩盒的影响

2.4.2 Fab 环境的影响

2.5 小结

第三章 光罩管理系统的介绍

3.1 光罩管理系统的介绍

3.1.1 IT 支持的光罩管理系统

3.1.2 光罩盒管理系统

3.1.3 光罩存储系统

3.1.4 光罩检测系统

3.2 目前系统中对光罩产生 Haze 的影响

3.2.1 光罩盒管理系统的缺陷

3.2.2 光罩存储系统的缺陷

3.2.3 光罩检测机制的缺陷

3.3 优化光罩管理系统来降低 Haze 产生的发展方向

3.4 小结

第四章 光罩管理系统的优化和成果

4.1 光罩盒管理系统的优化和成果

4.1.1 建立光罩盒清洗机制

4.1.2 建立光罩盒零部件更换机制

4.1.3 建立光罩盒清洗流程

4.1.4 建立光罩盒编码和报废机制

4.1.5 评估新光罩盒来满足19311m 以下制程的需要

4.2 优化光罩的检测机制

4.2.1 优化光罩 IRIS 检测机制

4.2.2 优化光罩 STAR-light 检测机制

4.2.3 建立光罩 Print-down 检测机制

4.3 小结

第五章 总结

参考文献

致谢

攻读学位期间发表的学术论文