摘要
1绪论
1．1课题研究背景及意义
1．2晶体表面刻蚀抛光加工工艺
1．3 ZnS材料特性及其应用
1．3．1 ZnS材料特性介绍
1．3．2 ZnS材料的应用
1．4国内外研究现状
1．4．1离子束刻蚀抛光研究现状
1．5论文主要研究内容及章节安排
1．4．2 ZnS晶体刻蚀抛光研究现状
1．5．1主要研究内容
1．5．2论文章节安排
1．6本章小结
2 ZnS刻蚀抛光的前期准备
2．1 ZnS晶片初加工及清洗
2．1．1 ZnS晶片表面初加工
2．1．2 ZnS晶片表面清洗
2．2 ZnS晶片表面评价参数与表面粗糙度测量
2．2．1 ZnS晶片表面评价参数
2．2．2 ZnS晶片表面粗糙度测量
2．3本章小结
3离子束刻蚀抛光ZnS工艺研究
3．1 SRIM软件模拟
3．2离子束刻蚀抛光机理及刻蚀设备
3．2．1离子束刻蚀抛光机理
3．2．2离子束刻蚀设备
3．3离子束刻蚀抛光ZnS晶片技术路线
3．4离子束刻蚀抛光ZnS晶片实验结果与分析
3．4．1离子束入射能量参数实验及结果分析
3．4．2离子束流参数实验及结果分析
3．4．3离子束入射角度参数实验及结果分析
3．4．4刻蚀时间参数实验及结果分析
3．4．5旋转速度参数实验及结果分析
3．5 ZnS晶片微观分析
3．5．1 ZnS晶片表面表征方法
3．5．2 ZnS晶片表面XRD检测及结果分析
3．5．3 ZnS晶片表面XPS检测及结果分析
3．6本章小结
4离子束沉积修正抛光ZnS工艺研究
4．1离子束沉积修正抛光工艺机理
4．2 ZnS晶片离子束沉积修正抛光技术路线
4．3 ZnS晶片离子束沉积修正抛光
4．3．1薄膜制备实验及结果分析
4．3．2牺牲层实验及结果分析
4．4 ZnS薄膜表面XPS检测及分析
4．5本章小结
5结论
5．1结论
5．2展望
参考文献
致谢
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