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第一章绪论
1.1 CVD金刚石薄膜研究概况
1.1.1 金刚石薄膜的优异性能及其应用
1.1.2 金刚石薄膜研究的关键技术
1.2 金刚石薄膜紫外光探测器的研究进展和发展方向
1.2.1 探测器结构的研究
1.2.2 电极材料与表面处理工艺
1.2.3 金刚石紫外光探测器的应用进展
1.3 共面栅结构紫外光探测器
1.3.1 共面栅探测器件的来源
1.3.2 共面栅器件的工作原理
1.3.3 探测器制备过程中关键问题
1.4 课题意义和研究内容
1.4.1 课题意义
1.4.2 研究目标,内容
第二章金刚石薄膜制备与性能表征
2.1 引言
2.2 金刚石薄膜的制备
2.2.1 衬底预处理
2.2.2 金刚石薄膜的沉积
2.3 金刚石薄膜样品表征
2.4 退火处理对金刚石薄膜的影响
2.5 本章小结
第三章共面栅结构探测器的制备工艺研究
3.1 引言
3.2 器件结构参数的确定
3.3 器件制作工艺
3.4 共面栅探测器读出电路
3.5 本章小结
第四章金刚石薄膜共面栅紫外光探测器的性能研究
4.1电流—电压特性
4.2紫外光响应特性
4.3 本章小结
第五章结论与展望
5.1 结论
5.2 展望
参考文献
攻读硕士学位期间公开发表的论文和申报的专利
作者在攻读学位期间参与的项目
致谢