多孔SiCOH低介电常数材料薄膜的制备与性能表征

目录

摘要

Abstract

第一章 绪论

1.1 低介电常数材料的提出

1.2 低介电常数材料的研究现状

1.3 降低介电常数的途径

1.4 低介电常数材料的性能要求

1.5 本课题研究的工作意义

第二章 多孔SICOH薄膜的制备与表征

2.1 引言

2.2 实验材料及设备

2.3 实验过程

2.3.1 溶胶-凝胶特点

2.3.2 样品制备

2.3.3 样品表征方法

2.4 结果与讨论

2.4.1 化学结构和组成分析

2.4.2 电学性能

2.4.3 力学性能

2.5 本章小结

第三章 超低K-SICOH薄膜的热性能分析

3.1 引言

3.2 实验过程

3.2.1 实验主要设备仪器

3.2.2 样品制备

3.2.3 样品表征

3.3 结果与讨论

3.3.1 薄膜的形貌及多孔结构分析

3.3.2 化学组成和微结构分析

3.3.3 热稳定性

3.3.4 电学性能

3.3.5 力学性能

3.4 本章小结

第四章 紫外辐照处理对超低K薄膜结构与性能影响

4.1 引言

4.2 实验过程

4.3 结果与讨论

4.3.1 P-SICOH薄膜的FTIR分析

4.3.2 P-SICOH薄膜的XPS分析

4.3.3 力学性能分析

4.3.4 电学性能分析

4.4 本章小结

第五章 总结与展望

参考文献

硕士阶段完成论文与专利

致谢