摘要
ABSTRACT
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 CMOS图像传感器的优点和发展
第二章 CMOS图像传感器工作原理简介
2.1 光电二极管简介
2.2 CMOS图像传感器的发展
2.3 CMOS图像传感器对生产工艺的要求以及本课题的方向
第三章 90纳米CIS浅沟槽隔离工艺优化
3.1 STI工艺介绍
3.1.1 STI沟槽顶角圆化的提出
3.2 STI沟槽顶角圆化方法
3.2.1 STI干法蚀刻工艺优化
3.2.2 STI Linear Oxide Pre-clean工艺优化
第四章 90纳米CIS工艺层间介质层工艺优化
4.1 层间介质层工艺介绍
4.2 层间介质层工艺优化方法
4.2.1 ILD CMP工艺优化
4.2.2 ILD薄膜淀积工艺优化
第五章 总结和展望
参考文献
致谢
