摘要
第一章 绪论
1.1 选题背景
1.2 TiO2纳米材料用于光能源转换简介
1.2.1 电子给体(Donor)和电子受体(Acceptor)的杂化结构
1.2.2 半导体/金属纳米复合物催化制氢
1.2.3 太阳能电池
1.3 TiO2半导体材料
1.3.1 晶型结构
1.3.2 制备方法
1.3.3 TiO2光催化剂
1.3.4 TiO2的改性方法
1.4 本论文的选题依据和研究内容
参考文献
第二章 实验部分
2.1 实验所用的化学药品和实验仪器
2.1.1 实验药品
2.1.2 实验仪器一览表
2.2 制样仪器设备
2.2.1 溅射原理
2.2.2 磁控溅射系统及其工作原理
2.2.3 离子注入设备及原理
2.3 实验表征手段
2.3.1 形貌和结构表征
2.3.2 光电化学测试
2.3.3 膜厚测量
参考文献
第三章 碳掺杂二氧化钛薄膜的光电特性
3.1 引言
3.2 双靶磁控共溅射制备C掺杂TiO2薄膜
3.2.1 薄膜晶格结构
3.2.2 薄膜成分
3.2.3 UV-Vis光谱
3.2.3 薄膜的表面形貌
3.2.4 薄膜的光电特性
3.2.5 小结
3.3 磁控溅射/等离子C注入法制备C掺杂TiO2薄膜
3.3.1 C掺杂TiO2薄膜的制备
3.3.2 晶体结构
3.3.3 薄膜成分
3.3.4 注碳TiO2的光电化学特性
3.3.5 小结
3.4 本章小结
参考文献
第四章 Mo-C共掺TiO2薄膜的光电特性研究
4.1 引言
4.2 Mo-TiO2薄膜的光电化学特性
4.2.1 Mo-TiO2薄膜的制备
4.2.2 Mo-TiO2薄膜的实验结果和讨论
4.3 (Mo,C)-TiO2薄膜的光电化学特性
4.3.1 Mo-C共掺TiO2薄膜的制备
4.3.2 Mo-C共掺TiO2薄膜的结果和讨论
4.3.3 小结
4.4.本章小结
参考文献
第五章 多层掺杂TiO2薄膜光电化学特性
5.1 引言
5.2 多靶磁控共溅射制备多层掺杂TiO2薄膜制备
5.2.1 多层膜结构
5.2.2 钼单掺和钼碳共掺多层TiO2薄膜的制备
5.3 M1型薄膜结构的光电流测试结果及结论
5.4 M2型薄膜结构实验结果及讨论
5.4.1 M2型结构中LMo+C层Mo+C掺杂含量
5.4.2 M2型结构中不同浓度掺杂层的XRD分析
5.4.3 M2型结构中不同多层结构的UV-Vis吸收谱
5.4.4 M2型薄膜结构的光电特性
5.5 本章小结
参考文献
第六章 多沟道阵列Mo-TiO2薄膜结构光电化学特性研究
6.1 引言
6.2 多沟道阵列Mo-TiO2薄膜结构制备及光电化学特性研究
6.2.1 多沟道阵列Mo-TiO2薄膜结构制各
6.2.2 样品沟道宽度和深度的检测
6.2.3 测试结果及讨论
6.2.4 沟道阵列模型解释
6.3 本章小结
参考文献
第七章 总结和展望
7.1 总结
7.2 展望
攻读博士学位期间的科研成果
致谢
声明