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陈辉辉;
东华大学;
低掺杂多孔硅纳米线; 化学刻蚀; 光致发光; 电学性能; 表面粗糙度; 生长机理;
机译:原位掺杂制备硅纳米线及其电性能
机译:等离子体掺杂制备的硼掺杂硅纳米线的表面化学结构和掺杂特性
机译:由掺杂P的硅纳米线控制的单层石墨烯制备碳纳米卷的MD模拟研究
机译:pH传感器用非掺杂多晶硅纳米线的制备与表征
机译:碳化硅纳米线的制备和性能。
机译:离子注入与原位掺杂相结合制备硅纳米线p–n结的新方法
机译:用重掺杂沟道制备高电流一维硅纳米线晶体管的实验与仿真研究
机译:离子束溅射制备低掺杂sn掺杂In2O3(ITO)薄膜。
机译:能够实现以低功率驱动且具有高性能的多功能柔性电子设备以及具有硅纳米线的电子设备的硅纳米线的制造方法
机译:使用多孔多层薄金属膜的硅纳米线阵列的制造方法,该多孔多层金属膜能够实现不受掺杂浓度和类型限制的硅纳米线阵列
机译:一种制备金属硅纳米线的方法及由此制备的金属硅纳米线
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