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第一章绪论
1.1透明导电薄膜研究现状
1.1.1透明导电薄膜简介
1.1.2 ZnO和SnO2基透明导电薄膜的研究现状
1.1.3 ZnO-SnO2基透明导电薄膜研究现状
1.2透明导电薄膜的制备方法介绍
1.2.1磁控溅射法
1.2.2喷雾热解法
1.2.3金属有机物化学气相沉积
1.2.4脉冲激光沉积法
1.2.5溶胶—凝胶法
1.3材料表面修饰技术
1.3.1核壳包覆结构介绍
1.3.2核壳包覆结构制备方法
1.3.3 ZnO基表面修饰
1.4本论文的研究内容
第二章溶胶-凝胶法的制备机理及二步成胶工艺介绍
2.1溶胶-凝胶法概述及制膜机理
2.1.1溶胶-凝胶法的基本原理
2.1.2溶胶-凝胶法的工艺过程
2.1.3溶胶-凝胶法的特点
2.2溶胶-凝胶法制备薄膜的方法
2.2.1旋转涂敷法
2.2.2浸渍提拉法
2.3二步成胶工艺
2.3.1溶胶介绍
2.3.2二步成胶工艺原理
2.4 ZnO@SnO2粉体、薄膜形成机理
2.5 ZnO@SnO2样品的制备过程
2.5.1实验设备及主要原料
2.5.2 ZnO@SnO2样品制备工艺流程
2.5.3透明导电薄膜及包覆结构的表征方法
第三章ZnO@SnO2粉体包覆结构的表征分析
3.1 ZnO@SnO2粉体X射线衍射分析
3.2.ZnO@SnO2粉体包覆结构XPS分析
3.2.1成分及含量
3.2.2成键分析
3.2.3包覆量分析
3.3退火温度对粉体结构及成键的影响
3.3.1不同退火温度下粉体XRD分析
3.3.2退火温度对包覆性能的影响
3.4本章小结
第四章ZnO@SnO2透明导电薄膜正交实验设计及分析
4.1实验
4.2正交实验制备ZnO@SnO2薄膜
4.2.1选取因素及水平
4.2.2确定正交实验表
4.3结果与讨论
4.3.1 X射线衍射分析
4.3.2正交实验数据分析
4.4 ZnO@SnO2薄膜的结构及表面形貌分析
4.4.1退火温度对ZnO@SnO2薄膜结构的影响
4.4.2退火温度对ZnO@SnO2薄膜表面形貌的影响
4.4.3二次成胶后溶胶粘度对ZnO@SnO2薄膜形貌的影响
4.5 ZnO@SnO2薄膜光学性能分析
4.5.1 Zn/Sn摩尔比对ZnO@SnO2薄膜光学性能的影响
4.5.2退火温度对ZnO@SnO2薄膜光学性能的影响
4.5.3薄膜厚度对ZnO@SnO2薄膜光学性能的影响
4.6.ZnO@SnO2薄膜电学性能分析
4.6.1.Zn/Sn摩尔配比对ZnO@SnO2薄膜电学性能影响
4.6.2退火温度对ZnO@SnO2薄膜电学性能影响
4.6.3薄膜厚度对ZnO@SnO2薄膜电学性能的影响
4.7本章小结
第五章掺杂ZnO@SnO2薄膜透明导电性能的研究
5.1掺Al对ZnO@SnO2透明导电薄膜性能的影响
5.1.1实验
5.1.2结果与讨论
5.2掺Sb对ZnO@SnO2透明导电薄膜性能的影响
5.2.1实验
5.2.2结果与讨论
5.3本章小结
结论
参考文献
攻读硕士学位期间取得的学术成果
致谢
西北大学;