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第一章绪论
§1.1课题背景
§1.2功率集成电路发展概况
§1.3 BCD集成电路技术的发展状况
§1.4本文研究的内容和意义
§1.5本文的主要工作
第二章 高压MOS功率器件的研究
§2.1器件击穿的理论分析
§2.1.1碰撞电离
§2.1.2雪崩击穿
§2.2结终端技术
§2.2.1场板技术
§2.1.3场限环技术
§2.2.3 RESURF技术
§2.3高压LDMOS器件结构
§2.3.1器件结构分析
§2.3.2 Double RESRUF的电荷平衡
§2.4 MEDICI使用简介
§2.4.1可分析的对象
§2.4.2物理模型
§2.4.3边界条件
§2.4.4仿真原理
§2.5器件耐压的二维仿真模拟及分析
§2.4.1漂移区长度的影响
§2.4.2栅极场板长度的影响
§2.4.3 P降场层浓度的影响
§2.4.4 P降场层长度的影响
§2.6器件导通电阻的分析
第三章 电路设计与仿真
§3.1系统的组成及原理介绍
§3.2系统参数特征及设计指针
§3.3控制电路的设计
§3.3.1压控振荡器的设计
§3.3.2积分器的设计
§3.3.3比较器的设计
§3.3.4数字逻辑部分的设计
§3.3.5控制电路的模拟仿真
§3.4驱动电路的设计
§3.4.1信号处理电路的设计
§3.4.2电平位移电路
§3.4.3高、低压驱动级电路的设计
第四章工艺及版图设计
§4.1工艺设计
§4.1.1兼容工艺设计
§4.1.2高低压兼容工艺流程
§4.2版图设计
§4.2.1版图设计的步骤
§4.2.2版图设计的一般要求
§4.2.3部分版图
第五章 总结与展望
§5.1总结
§5.2展望
致谢
参考文献
作者在读期间的研究成果
附录