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声明
1绪论
1.1膜层的制备方法
1.1.1化学气相沉积方法
1.1.2物理气相沉积方法
1.2电弧离子镀概况及应用现状
1.3电弧离子镀设备组成及特点
1.4 TiAlN膜层研究现状
1.5课题研究目的及意义
2电弧离子镀的工作原理
2.1真空基础
2.1.1真空度和真空区域的划分
2.1.2真空的特点和应用
2.1.3真空获得方式
2.2气体放电原理
2.2.1气体放电特点
2.2.2气体放电伏安特性
2.2.3着火电压与巴邢定律
2.3弧光放电
2.4电子发射原理
2.4.1热电子发射
2.4.2场致发射
2.5等离子体基础
2.6电弧离子镀的过程及工作原理
3双金属电弧离子蒸发源的研制
3.1金属电弧离子蒸发源的设计原则
3.2双金属电弧离子蒸发源的设计
3.2.1磁场与靶源调节机构
3.2.2引弧机构
3.2.3冷却水系统
3.2.4弧屏蔽及隔弧机构
3.2.5电弧源电位布置
3.2.6离子蒸发源的部件选材
3.3双金属电弧离子蒸发源放电性能及使用性能
3.4双金属电弧离子蒸发源的UG NX实体建模
3.5本章小结
4双金属电弧离子蒸发源放电状况影响因素
4.1磁场对双金属电弧离子蒸发源电弧放电的影响
4.1.1等离子体的产生
4.1.2带电粒子在电磁场中的运动
4.1.3磁场对电弧的影响
4.1.4磁场对双金属电弧离子蒸发源放电影响分析
4.2双金属电弧离子蒸发源电弧阴极现象分析
4.2.1真空电弧特性
4.2.2阴极弧斑的特点
4.2.3宏观颗粒的形成和消除
4.3双金属电弧离子蒸发源电弧稳定性分析
4.3.1影响因素
4.3.2分析与讨论
4.4本章小结
5双金属电弧离子蒸发源在TC4钛合金表面TiAlN膜层的制备
5.1 TC4钛合金表面电弧离子镀TiAlN膜层工艺参数分析
5.2 TiAlN梯度膜层制备
5.2.1实验设备与工艺参数选择
5.2.2 TC4钛合金表面TiAlN梯度膜层制备
5.3 TiAlN梯度膜层的分析测试
5.3.1膜层微观形貌及元素分布
5.3.2膜层表面粗糙度
5.3.3显微硬度
5.4本章小结
6结论
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间发表的论文
陕西科技大学;