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余春燕;
太原理工大学;
CrAlN薄膜; 闭合场; 非平衡磁控溅射沉积; 组织结构; 三元固溶体; 机械性能; 气体离子源增强; 耐腐蚀性;
机译:中频非平衡磁控溅射在不同衬底偏置占空比下沉积的CrAlN薄膜的结构和性能
机译:基板到腔室壁距离对脉冲-封闭场不平衡磁控溅射(P-CFUBMS)沉积的CrAlN膜的结构和性能的影响
机译:总气压对脉冲直流平衡磁控溅射系统沉积CrAlN薄膜组织和性能的影响
机译:沉积参数对脉冲直流反应溅射制备的CRALN薄膜结构和性能的影响
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:磁控溅射高熵膜的生长机理及沉积参数对结构和性能的影响
机译:PVD磁控溅射沉积CrAlN多层涂层的评价
机译:闭合场非平衡磁控溅射 - 用于紧固件的环境安全腐蚀和磨损涂层
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
机译:磁控溅射系统及通过磁控溅射薄膜沉积的方法
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