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第一章 绪论
1.1 纳米技术的发展
1.2 SiO2的基本性质以及应用
1.3 Au/SiO2纳米颗粒膜的研究进展
1.4 SiO2 纳米线的研究进展
1.5 本论文的选题依据
第二章 实验设备与测试方法
2.1 实验设备介绍
2.2 实验材料
2.3 样品的测试和表征
第三章 磁控溅射和退火法制备Au/SiO2纳米颗粒膜
3.1 Au/SiO2纳米颗粒膜的制备
3.2 退火温度对Au/SiO2纳米颗粒膜形貌的影响
3.3 退火时间对 Au/SiO2 纳米颗粒膜形貌的影响
3.4 本章小结
第四章 磁控溅射和退火法制备SiO2纳米线
4.1 SiO2纳米线的制备
4.2 SiO2纳米线的测试及特性分析
4.3 SiO2纳米线的生长机理的研究
4.4 本章小结
第五章 全文总结
5.1 本文的主要研究结果
5.2 对今后工作的建议
参考文献
论文作者在学期间发表的学术论文目录
致谢