声明
英文缩略表
摘要
1 前言
1.1 课题研究背景及意义
1.2 印染废水处理现状
1.2.1 印染废水污染现状
1.2.2 印染废水防治措施与技术
1.3 光催化技术研究进展
1.3.1 半导体光催化的基本原理
1.3.2 光催化材料发展历程
1.4 BiVO4的研究进展
1.4.1 BiVO4的结构与性质
1.4.2 BiVO4的制备与表征方法
1.4.3 水热合成条件对BiVO4的影响
1.4.4 BiVO4的改性
1.5 研究内容
1.6 技术路线
2 材料与方法
2.1 实验试剂及仪器
2.2 催化材料制备方法
2.2.1 BiVO4的制备
2.2.2 Ag/BiVO4的制备
2.3 材料表征方法
2.4 光催化性能测试体系及评价方法
2.4.1 光源
2.4.2 实验装置
2.4.3 光解实验方法
2.4.4 光解分析方法
3 结果与讨论
3.1 pH对BiVO4的合成及性能的影响
3.1.1 X射线衍射分析
3.1.2 扫描电镜分析
3.1.3 紫外-可见漫反射光谱分析
3.1.4 pH对BiVO4样品光催化性能影响
3.2 Ag/BiVO4表征及光催化活性研究
3.2.1 X射线衍射分析
3.2.2 X射线光电子能谱分析
3.2.3 扫描电镜分析
3.2.4 紫外-可见漫反射分析
3.2.5 Ag/BiVO4样品的可见光催化活性
3.3 Ag/BiVO4光解机理探究
3.3.1 光催化机理实验方法
3.3.2 捕获剂的抑制作用
3.4 Ag/BiVO4在自然光下催化活性
3.4.1 太阳光催化实验方法
3.4.2 太阳光催化性质
4 结论与展望
4.1 主要结论
4.2 展望
5 本论文的创新点
参考文献
致谢
8 攻读学位期间发表学术论文