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摘要
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 LaB6简介
1.2.1 LaB6的结构特性
1.2.2 LaB6的物理和化学性质
1.2.3 LaB6的研究和应用现状
1.3 透明柔性聚合物基底简介
1.3.1 PET基底的性质和研究现状
1.3.2 其他主要透明柔性聚合物基底
1.4 薄膜表面改性技术
1.4.1 等离子体表面处理
1.4.2 中间过渡层
1.5 LaB6薄膜的制备方法
1.5.1 LaB6粉末的制备方法
1.5.2 LaB6阴极靶材的制备方法
1.5.3 薄膜的制备方法
1.5.4 磁控溅射镀膜原理及其影响因素
1.6 透明柔性光学薄膜的研究及应用现状
1.6.1 透明柔性光学薄膜的研究及应用现状
1.6.2 LaB6的光学性能机理及应用现状
1.7 选题依据及主要研究内容
1.7.1 目前存在的主要问题
1.7.2 研究目的及意义
1.7.3 主要研究内容
第二章 实验方案和研究方法
2.1 实验原材料及其用途
2.2 主要实验设备及其功能
2.3 实验方案及主要研究内容
2.3.1 高纯六硼化镧微米粉末的制备工艺研究
2.3.2 六硼化镧阴极靶材的制备工艺研究
2.3.3 透明柔性基底的表面等离子体处理
2.3.4 透明柔性六硼化镧纳米薄膜的磁控溅射制备工艺研究
第三章 富硼LaB6磁控溅射阴极靶材的制备与成分设计
3.1 高纯LaB6微米粉末的制备
3.1.1 LaB6粉末的XRD分析
3.1.2 LaB6粉末的形貌分析
3.1.3 LaB6粉末的晶粒尺寸分析
3.1.4 LaB6粉末的粒度分析
3.1.5 LaB6粉末的成分分析
3.2 富硼LaB6阴极靶材的制备
3.2.1 靶材组织结构分析
3.2.2 靶材力学性能分析
3.3 富硼靶材和薄膜间化学当量相关性研究
3.3.1 薄膜的组织结构和成分分析
3.3.2 靶材富硼量对沉积速率的影响
3.3.3 薄膜成分对力学性能的影响
3.4 本章小结
第四章 磁控溅射LaB6薄膜的组织结构研究
4.1 LaB6薄膜沉积速率
4.1.1 溅射方式对沉积速率的影响
4.1.2 氩气气压对沉积速率的影响
4.1.3 溅射时间对沉积速率的影响
4.2 LaB6薄膜的形貌分析
4.2.1 基底表面处理对薄膜形貌的影响
4.2.2 溅射方式对薄膜形貌的影响
4.2.3 氩气气压对薄膜形貌的影响
4.2.4 溅射时间对薄膜形貌的影响
4.3 LaB6薄膜的分子结构分析
4.3.1 LaB6薄膜的拉曼光谱分析
4.4 LaB6薄膜的精细结构分析
4.6 本章小结
第五章 LaB6薄膜的性能研究
5.1 LaB6薄膜的力学性能研究
5.1.1 溅射功率对薄膜力学性能的影响
5.1.2 氩气气压对薄膜力学性能的影响
5.1.3 溅射时间对薄膜力学性能的影响
5.2 LaB6薄膜的光学性能研究
5.2.1 溅射功率对薄膜光学性能的影响
5.2.2 氩气气压对薄膜光学性能的影响
5.2.3 溅射时间对薄膜光学性能的影响
5.3 LaB6薄膜透明隔热性能计算
5.3.1 溅射功率对薄膜透明隔热性能的影响
5.3.2 氩气气压对薄膜透明隔热性能的影响
5.3.3 溅射时间对薄膜透明隔热性能的影响
5.4 本章小结
第六章 结论
6.1 本文的主要结论
6.2 本文的主要创新点
6.3 对下一步研究工作的建议
参考文献
致谢
攻读硕士期间发表的论文
攻读硕士期间参与的研究项目
硕士阶段所获简历