在1.54μm波段的发光是由4f壳层中电子的4I<,13/2>→4I<,15/2>跃迁产生的,对应着石英光纤的最小吸收窗口,因此在光通讯领域得到了广泛的应用.随着光纤通信和集成光电子学的发展,人们越来越多的关注掺Er光波导放大器(EDWA)的研究,EDWA在通讯领域的潜在应用前景对薄膜材料的研究提出了新的挑战.本硕士论文在国家自然科学基金(项目编号:50240420656)资助'/>
文摘
英文文摘
独创性说明
1.绪论
1.1 EDWA的研究背景
1.2 Er3+的精细结构及光谱理论
1.3 Yb共掺的作用
1.4掺Er薄膜材料的研究和发展现状
1.4.1掺Er硅基薄膜的研究现状
1.4.2掺Er化合物薄膜的研究现状
1.5本论文工作的主要目的和研究重点
参考文献
2薄膜的制备及分析方法
2.1本论文中薄膜制备的方法
2.1.1离子束辅助沉积技术
2.1.2磁控溅射沉积技术
2.2薄膜质量的研究方法
2.2.1透射电镜分析(TEM)
2.2.2 X射线衍射(XRD)
2.2.3扫描电镜分析(SEM)
2.2.4透射谱的分析方法
2.2.5薄膜光致荧光的测量
参考文献
3离子束辅助沉积(IBAD)法制备掺Er-SiOX薄膜
3.1掺Er-SiOX薄膜的制备
3.1.1衬底的选择及清洗
3.1.2靶的制备
3.1.3实验操作过程及参数控制
3.1.4基片的加热方式和退火工艺
3.2掺Er-SiOX薄膜的表征
3.2.1薄膜厚度分析
3.2.2薄膜成分分析
3.2.3薄膜结构分析
3.2.4薄膜的红外光致荧光
3.3本章结论
参考文献
4射频磁控溅射沉积Er/Yb共掺ZnO薄膜
4.1 Er/Yb共掺ZnO薄膜的制备
4.1.1衬底的选择和清洗
4.1.2实验操作过程及参数控制
4.1.3退火处理
4.2沉积温度对Er/Yb共掺ZnO薄膜的影响
4.2.1成分分析
4.2.2 XRD结构分析
4.2.3薄膜厚度及光学特性分析
4.3退火温度对Er/Yb共掺ZnO薄膜的影响
4.3.1成分分析:
4.3.2 XRD结构分析
4.3.3透射谱分析
4.4光致荧光特性分析
4.4.1红外PL发光的测量
4.4.2紫外PL发光的测量
4.5本章结论
参考文献
5脉冲磁控溅射制备Er/Yb共掺ZnO薄膜
5.1 Er/Yb共掺ZnO薄膜的制备
5.2 Er/Yb共掺ZnO薄膜的表征
5.2.1 XRD结构特征
5.2.2薄膜厚度及光学参数分析
5.3 Er/Yb共掺ZnO薄膜光致荧光特性
5.4本章结论
参考文献
6结论与展望
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
致谢
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