声明
摘要
图目录
表目录
主要符号表
1 绪论
1.1 氮化硅的基本性质及研究现状
1.1.1 氮化硅的分类及性质
1.1.2 a-SiNx:H的研究现状及主要应用
1.2 a-SiNx:H薄膜的制备方法
1.2.1 直接氮化法
1.2.2 物理气相沉积法
1.2.3 化学气相沉积法(CVD)
1.3 PECVD制备a-SiNx:H薄膜存在的问题
1.4 论文研究思路及内容
2 低气压管式放电及探索性应用研究
2.1 引言
2.2 一种新型的低气压管式放电技术
2.2.1 低气压管式放电装置的基本组成
2.2.2 低气压管式放电的特性
2.3 低气压管式放电的探索性应用
2.3.1 PECVD内壁镀膜
2.3.2 等离子体刻蚀
2.3.3 等离子体渗氮
2.3.4 等离子体辅助脉冲激光沉积
2.4 本章小结
3 N等离子体发射光谱分析方法研究
3.1 引言
3.2 利用OES确定N2分子解离率的自洽计算方法
3.2.1 确定原子密度的光化线原理
3.2.2 自洽计算方法的OES模型
3.2.3 利用OES自洽确定电子温度
3.2.4 自洽计算方法确定N2解离率
3.2.4 自洽计算法的正确性检验
3.3 N等离子体OES拟合方法研究
3.3.1 N2分子第二正带结构及谱线位置
3.3.2 谱线强度确定
3.3.3 优化算法及光谱拟合
3.4 本章小结
4 低气压管式放电N等离子体研究
4.1 引言
4.2 低气压管式放电的放电模式
4.3 G和SP模式的放电特性
4.4 SP放电N等离子体的进一步分析
4.5 本章小结
5 管式放电PECVD生长a-SiNx:H薄膜
5.1 引言
5.2 双管式放电PECVD沉积a-SiNx:H薄膜
5.3 室温沉积a-SiNx:H薄膜的表征
5.4 本章小结
6 管式放电PECVD生长a-SiNx:H量子点薄膜
6.1 引言
6.2 a-SiNx:H量子点薄膜的制备与表征
6.3 a-SiNx:H量子点的量子限域效应
6.4 a-SiNx:H量子点薄膜的荧光机制
6.5 本章小结
7 结论与展望
7.1 结论
7.2 创新点
7.3 展望
参考文献
攻读博士学位期间科研项目及科研成果
致谢
作者简介
大连理工大学;