声明
摘要
1 绪论
1.1 背景和意义
1.2 国内外研究
1.3 主要研究内容和结构安排
2 光学薄膜理论
2.1 光学薄膜特性的理论基础
2.1.1 麦克斯韦方程
2.2.2 光学导纳
2.1.3 菲涅尔公式
2.1.4 薄膜干涉原理
2.1.5 计算薄膜的反射率
2.2 减反射膜设计原理
2.2.1 单层减反射膜
2.2.2 双层减反射膜
2.2.3 多层减反射膜及对称膜系的等效折射率
2.2.4 薄膜的优化
3 红外减反射膜工艺设计
3.1 基底材料
3.1.1 锗(Ge)
3.1.2 硒化锌(ZnSe)
3.2 薄膜材料
3.2.1 薄膜材料的要求
3.2.2 常用红外薄膜材料
3.3 膜系设计
3.3.1 Ge基底
3.3.2 ZnSe基底
3.3.3 膜系及膜料的确定
4 工艺研究
4.1 设备介绍
4.1.1 真空系统
4.1.2 蒸发系统
4.1.3 膜厚控制系统
4.2 APS离子源原理及使用
4.2.1 APS离子源
4.2.2 APS离子源辅助沉积工艺参数的选择
4.3 工艺参数的确定及光学常量计算
4.3.1 工艺参数的确定
4.3.2 光学常量的计算
4.4 Macleod薄膜设计软件优化薄膜设计
4.5 减反射膜制作
4.5.1 镀膜前基表板面的清洁
4.5.2 镀膜过程
5 工艺结果
5.1 光谱曲线测量结果
5.2 误差分析
5.3 薄膜耐环境性能测试
6 结论
致谢
参考文献