声明
摘要
1 绪论
1.1 滤光膜的基本种类
1.2 渐变滤光膜的发展与现状
1.3 选题背景、研究内容及意义
1.4 本论文的主要研究内容及章节安排
2 薄膜的基本原理
2.1 光的电磁理论基础
2.1.1 光波与介质
2.1.2 麦克斯韦方程
2.1.3 菲涅尔公式
2.2 光学薄膜的设计基础
2.2.1 介质薄膜系统的计算
2.2.2 吸收薄膜系统的计算
2.3 滤光片
3 方案论证
3.1 变密度盘的基本原理
3.1.1 技术要求
3.1.2 基本原理
3.2 确定变密度盘的膜料及镀膜方式
3.2.1 确定膜料及膜系
3.2.2 确定镀膜方式
4 脉冲多弧离子镀
4.1 多弧离子镀的发展与现状
4.2 多弧离子镀的工作原理
4.3 多弧离子镀的特点
5 镀制设备
5.1 DMD-450真空镀膜机
5.2 渐变膜遮板的设计和制作
5.3 电机正、反转运动
5.4 安装脉冲多弧离子镀装置
5.4.1 脉冲多弧离子镀的结构设计
5.4.2 脉冲多弧离子源电源的设计
6 变密度盘渐变膜镀制工艺
6.1 主回路电压、电容对多弧离子源的影响
6.2 起弧回路电压和电容对脉冲多弧离子源的影响
6.3 脉冲电源的频率对渐变膜的影响
6.4 工件夹的旋转周期对渐变膜的影响
6.5 真空度对渐变膜的影响
6.6 膜层厚度实验和镀膜的重复性
7 薄膜性能测试
7.1 镍铬铁合金渐变膜的光学特性测量
7.1.1 镍铬铁合金渐变膜的检测仪器
7.1.2 镍铬铁合金渐变膜的光学特性曲线
7.1.3 膜层的减反射膜特性
7.1.4 膜层的中性特性
7.1.5 合金膜最厚部分的反射曲线
7.1.6 同一半径上测得的光谱曲线
7.2 膜层的牢固度研究及膜层性能测试
7.2.1 基片表面清洁对牢固度的影响
7.2.2 基片温度对牢固度的影响
7.2.3 膜层与基片附着力的测试
7.2.4 基片的抗磨强度
7.3 膜层表面质量
7.4 镀膜后零件对环境适应性的测试
7.4.1 恒定温热
7.4.2 低温
7.4.3 浸泡
7.4.4 高低温试验后光谱性能
7.4.5 高低温试验后中性性能
8 结论
致谢
参考文献