可见与红外双波段增透膜的研究与制备

摘要

本研究根据军用光学仪器的使用要求，在多光谱ZnS基底上，可见与近红外波段400～1000nm及远红外波段7～11μm，镀制增透膜，要求平均透射率大于90％。采用电子束真空镀膜的方法并加以离子辅助沉积系统，通过选择ZnS和YbF3作为高低折射率材料，利用最新OptiLayer软件三大模块的功能辅助，调整镀膜工艺参数，改进监控方法，减少膜厚控制误差，在多光谱ZnS基底上成功镀制符合使用要求的增透膜。所镀膜层在可见与近红外波段400～1000nm的平均透射率大于91％，远红外波段7～11μm的平均透射率大于90％，能够承受恶劣的环境测试，完全满足军用光学仪器的使用要求。

目录

文摘

英文文摘

声明

第一章 绪 论

1.1光学薄膜的发展概述

1.2论文研究背景及内容

第二章薄膜光学的基本理论

2.1薄膜干涉原理

2.2电磁理论基础

2.3单层介质薄膜的反射率

2.4多层介质薄膜的反射率

第三章材料选取

3.1 基底材料

3.2膜料选取

3.3材料的光学特性

第四章膜系设计

4.1膜系优化设计的基本原理及评价函数的构成

4.2增透膜系的确定

第五章薄膜制备

5.1 镀膜设备

5.2考夫曼离子源

5.3膜厚的测量与监控

5.4工艺因素

5.5制备过程

第六章测试结果与分析

6.1膜层性能的测试

结 论

致 谢

参考文献

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