超宽带双波段增透膜镀制工艺技术研究—0.43～0.9微米及1.54微米增透膜镀制

摘要

光学薄膜技术作为现代光学技术的一个重要分支,随着现代科学技术的飞速发展,光学薄膜器件及技术得到了越来越广泛的应用.特别在军用光电领域,多光谱、多传感器融合技术对复杂膜层的要求变得迫切.本文对超宽带增透膜镀制工艺技术进行了研究,制作了0.4~0.9微米及1.54微米增透膜,膜层平均透过率大于99%.膜层的镀制是一个涉及许多学科的复杂过程.本文对在镀膜过程中影响膜层性能的工艺因素进行了分析、研究;提出要结合所使用镀膜机的状况,在膜系设计、镀膜材料的性能研究、材料的稳定蒸发、膜层厚度的实时监控等技术方面多做工作,采取措施来保证膜层制做的稳定性、经济性.本文给出了在ZZSX-800镀膜机上镀制超宽带增透膜的工艺过程.

目录

文摘

英文文摘

1绪论

1.1研究背景

1.2光学薄膜的种类

1.3光学薄膜工艺技术发展历程[7][8]

1.4光学薄膜制备技术

1.5本领域国内外情况对比分析

1.5.1本领域国外的装备与先进制造工艺技术发展现状与趋势

1.5.2本领域国内的装备与先进制造工艺技术发展现状与趋势

1.6本文主要工作

2薄膜的基本理论

2.1薄膜的干涉

2.2薄膜反射率的计算

2.2.1单一界面的反射率

2.2.2单层薄膜的反射率

2.2.3多层膜系的反射率

2.2.4周期性多层膜的反射率

2.2.5用矢量法计算反射率

2.3减反射膜

2.3.1单层减反射膜

2.3.2两层减反射膜

2.3.3多层减反射膜

2.4反射率曲线的包络

2.5分析膜层的形成过程

3超宽带双波段增透膜膜系设计

3.1性能指标要求

3.2膜料的选择

3.3膜系设计

3.3.1材料实际参数的测定

4超宽带双波段增透膜的镀制

4.1真空镀膜机原理及实验装置

4.1.2电子束加热蒸发

4.1.3膜厚监控原理

4.2待镀件的镀前处理

4.3工艺过程

4.4镀出的膜层测试结果

5结果分析

5.1误差来源

5.2误差分析

回顾与展望

致谢

参考文献