声明
摘要
第1章绪论
1．1引言
1．2磁记录简介
1．2．1磁记录材料发展历程
1．2．2磁存储技术简介
1．3 FePt1-xRhx材料
1．3．1 FePt材料简介
1．3．2 FeRh材料简介
1．3．3 FePt1-xRhx材料简介
1．4论文的选题背景和安排
第2章薄膜的制备与表征方法
2．1薄膜样品的制备
2．1．1磁控溅射原理及装置
2．1．2靶材的选取
2．1．3基片的选择与清洗
2．2样品的表征
2．2．3 X射线光电子能谱(XPS)
2．2．4原子力显微镜(AFM)
2．2．5综合物性测量系统(PPMS)
第3章FePt薄膜的制备与磁性研究
3．1引言
3．2 L10有序相FePt薄膜的制备
3．2．1 Cr／Pt缓冲层的FePt薄膜制备
3．2．2 Pt缓冲层的FePt薄膜制备
3．3 FePt薄膜的测试和表征
3．3．1 FePt薄膜的物象表征和结构分析
3．3．2 FePt薄膜的磁性能分析
3．4本章小结
第4章FeRh及FePt1-xRhx薄膜的制备与磁电性研究
4．1引言
4．2 B2有序FeRh薄膜的制备
4．3 FeRh薄膜的测试和表征
4．3．1 FeRh薄膜的物象表征和结构分析
4．3．2 FeRh薄膜的磁性能分析
4．3．3 FeRh薄膜的输运特性分析
4．4 FePt1-xRhx薄膜的制备
4．5 FePt0．5Rh0．5薄膜的测试和表征
4．5．2 FePt0．5Rh0．5薄膜的磁性能分析
4．6本章小结
第5章FePt／FePt0．5Rh0．5双层膜的制备与磁性研究
5．1引言
5．3 FePt／FePt0．5Rh0．5双层膜的测试和表征
5．3．1 FePt／FePt0．5Rh0．5双层膜的物象表征和结构分析
5．3．2 FePt／FePt0．5Rh0．5双层膜的磁性能分析
5．4本章小结
第6章全文总结
致谢
参考文献
附录
