投影步进光刻机主控软件研究与开发

摘要

以微电子技术为基础、集成电路为核心的信息产业是目前国际上的朝阳产业，在国民经济中所占比重和影响越来越大。在国防科技方面，集成电路技术己成为高科技尖端武器装备最为基本的基础支撑技术。集成电路产业的高速发展和技术进步，首先源于光学光刻技术的发展。分步投影光刻机是集成电路生产中最为关键的工艺设备，只有高水平的分步投影光刻机，才能生产高水平的集成电路。随着我国经济的不断发展，国内的电子行业也随着全球电子行业突飞猛进，尤其微电子行业更是前所未有。西方国家长期将分步投影光刻机列为重要的战略物资，所以研制国产的分步投影光刻机是解决我国电子行业受制于人的唯一途径。 本文就国产光刻机的主控软件作了如下的分析研究： 1)论文分析了国内外投影光刻机的发展历程和现状，参考大量国内外文献，研究了相关的光刻机资料，较为详尽的分析了光刻机软件面临的情况，提出了国内光刻机开发的一套控制应用软件开发思路。 2)根据对这些问题的分析，描述了光刻机软件的需求分析，通过对光刻机用途的阐述，详细说明了软件的设计需求和功能定义。实现了0.5微米投影步进光刻机的主控软件功能以及相关辅助软件的功能。对光刻机中难度较大的对准模块进行了原理论述和软件算法实现等功能的详细论述。 3)通过0.5微米投影步进光刻机研制的成果，解决了国产分步投影光刻机主控软件的空白，为目前正在研制的“863”项目O．1微米扫描光刻机的主控软件研制提供了基础和研发经验，为早日实现国产光刻机产业化奠定了基础。 本文最后还展望了本课题的发展和今后的光刻机软件研究重点。

目录

文摘

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1绪论

1.1课题的来源、目的、意义

1.2国内外研究与应用现状

1.3本文主要研究内容

2需求分析和功能定义

2.1主控软件描述

2.2功能需求

3概要设计

3.1开发语言的选择

3.2计算机系统及总线结构

3.3软件主要功能模块概要设计

4对准模块的软件设计

4.1光刻机对准模块的软件设计

4.2对准数据的EGA算法设计

4.3对准软件流程图

5系统的开发与实现

5.1主要软件模块功能

5.2软件功能技术指标

6总结与展望

6.1全文总结

6.2研究展望

致谢

参考文献

附录1 攻读学位期间发表学术论文目录