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目录
1 引言
1.1 ZnO薄膜的基本特性
1.2 ZnO薄膜的研究历史与现状
1.3 ZnO器件的应用前景
1.4 ZnO器件研究所面临的问题
1.5 主要内容及创新点
2 脉冲激光沉积法制备ZnO/Si薄膜的原理与工艺
2.1 PLD法制备薄膜的特点
2.2 PLD法制备薄膜的原理及设备
2.3 PLD法制备薄膜的工艺
2.4 飞秒激光沉积制备大面积均匀薄膜
2.5 本章小结
3 ZnO/Si薄膜的结构特性
3.1 薄膜的晶体结构分析方法概述
3.2 工艺参数对ZnO/Si薄膜结构的影响
3.3 纳秒与飞秒激光沉积ZnO/Si薄膜的结构特性比较
3.4 本章小结
4 ZnO/Si薄膜的形貌特征
4.1 FESEM形貌分析原理
4.2 工艺参数对薄膜形貌的影响
4.3 飞秒激光制备ZnO/Si纳米薄膜
4.4 纳秒与飞秒激光沉积ZnO/Si薄膜的形貌特性比较
4.5 本章小结
5 ZnO/Si薄膜的光学性能
5.1 薄膜的光学性能分析方法概述
5.2 工艺参数对ZnO薄膜光学性能的影响
5.3 纳秒与飞秒激光沉积ZnO薄膜的光学性能比较
5.4 本章小结
6 全文总结与展望
6.1 全文总结
6.2 后续工作及展望
致谢
参考文献
附录1 攻读学位期间发表的论文
附录2 攻读学位期间参与的科研项目