声明
摘要
1.1 选课背景
1.2 聚硅烷的简介
1.2.1 聚硅烷的结构
1.2.2 聚硅烷的性质
1.2.3 聚硅烷的合成方法
1.2.4 聚硅烷的应用
1.3 二硫化钼的简介
1.3.1 二硫化钼的结构
1.3.2 二硫化钼的性质
1.3.3 二硫化钼的应用
1.4 二硫化钼的改性
1.4.1 二硫化钼剥层改性
1.4.2 二硫化钼夹层改性
1.4.3 二硫化钼接枝改性
1.5 国内外研究现状
1.5.1 聚硅烷研究现状
1.6 研究意义及主要研究内容
1.6.1 研究意义
1.6.2 主要研究内容
第2章 空位接枝法制备二硫化钼接枝聚硅烷及表征
2.1 实验仪器及试剂
2.2 含双键聚硅烷的制备
2.2.1 制备方法
2.2.2 实验流程
2.2.3 反应条件
2.3 含巯基聚硅烷(PSI-(CH2)6-SH)的制备
2.3.1 制备方法
2.3.2 光引发法制备PSI-(CH2)6-SH实验流程
2.4.1 制备方法
2.4.2 实验流程
2.5.1 制备方法
2.5.2 实验流程
2.6.1 红外表征
2.6.2 紫外表征
2.6.3 SEM及EDS表征
2.6.4 XPS表征
2.7 本章小结
第3章 共价接枝法制备二硫化钼接枝聚硅烷及表征
3.1 实验仪器及试剂
3.2 含氯聚硅烷(PSI-Cl)的制备
3.2.1 制备方法
3.2.2 实验流程
3.2.3 反应条件
3.3 单层二硫化钼的制备
3.5 接枝产品(MoS2-PSI)的表征
3.5.1 红外表征
3.5.2 XRD表征
3.5.3 XPS表征
3.5.4 SEM及EDS表征
3.5.5 TEM表征
3.6 本章小结
第4章 结果分析与讨论
4.1.2 MoS2-g-PSI接枝率分析
4.1.3 电导率测试
4.2 MoS2-PSI的结果分析
4.2.2 电导率测试
4.3 结果讨论
4.4 本章小节
结论
参考文献
攻读学位期间发表的学术论文和申请的专利
致谢